无掩膜紫外光刻机 瑆创光子学商店

　　可以设计任何您想要的纳米图形，而无需昂贵的光刻板。瑆创科技的这款产品能在实现优越的光刻性能的同时，保证低成本以及更便捷的用户体验。

　　在多层曝光期间，GDS 图案被覆盖以进行可视化。 控制 GUI（左窗口）有一个加载的 GDS 的小地图，允许通过一键导航到晶圆上的任何区域。

　　BEAM 在 100-240 VAC 50-60j Hz 上运行。 自动感应线路电压和频率； 因此，无需设置任何开关。 检查您所在地区的工作电压是否兼容。

　　UV Laser Writer - Maskless Lithography BEAM

　　Maskless Lithography UV Direct Laser Writer system, minimum linewidth 2um guaranteed, 0.8 µm achievable, minimum pitch 1.6 µm achievable, exposure time2 s for 1 writefield, maximum writefield 400 µm ✕ 400 µm, laser power 40mw, laser wavelength 405nm